رشد و مشخصه یابی لایه های نازک نانو ساختار اکسید قلع تهیه شده بوسیله ی تبخیر با اشعه الکترونی
thesis
- وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه گیلان - دانشکده علوم پایه
- author طیبه قاسم پور قاضی محله
- adviser محمد روضاتی
- Number of pages: First 15 pages
- publication year 1388
abstract
چکیده ندارد.
similar resources
رشد و مشخصه یابی ساختاری و الکتریکی نانو ذرات Si تهیه شده به روش تبخیر با باریکه الکترونی
نانو ذرات Siبه روش تبخیر با باریکه بر روی زیر لایه p-Si(111)در زاویای °0، °75 و °85 ساخته شد. مقاومت سطحی نمونه ها به روش ون در پاو اندازه گیری و با نمونه زیر لایه سیلیکان مقایسه شد. نتائج نشان داد به علت افزایش زاویه از °75 به °85 نانو ذرات سیلیکان با تخلخل بیشتری شکل می گیرند در نتیجه نمونه °85 توانایی حمل جریان بیشتر در ولتاژ های مشابه از خود نشان می دهد. این در حالیست که مساحت سطحی و در ن...
full textتاثیر غلظت آلاینده اکسید قلع بر خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید ایندیم تهیه شده به روش تبخیر با باریکه الکترونی
در این کار تجربی لایه های نازک اکسید ایندیم آلاییده با اکسید قلع (ito) با ترکیب های مختلفی از 60 تا wt%95 اکسید ایندیم و 40 تا wt%5 اکسید قلع با استفاده از روش تبخیر با باریکه الکترونی بر روی زیرلایه های شیشه ای نهشته شدند. لایه ها پس از نهشت، به مدت 3 ساعت در هوا در دمای cْ450 تحت عملیات حرارتی قرار گرفتند. تاثیر غلظت آلاینده اکسید قلع با تغییر غلظت آن از 5 تا wt%40 بر روی خواص ساختاری و اپتیک...
full textتهیه و مشخصه یابی لایه های نازک نانو ساختار اکسید روی آلاییده شده با مس
در این پژوهش لایه های نازک روی اکسید و روی اکسید آلاییده شده با مس به روش لایه نشانی حمام شیمیایی تهیه شده است. از محلول آبی روی کلرید برای منبع یون های روی، از متن آمین به عنوان عامل کمپلکس دهنده و از مس استات یک آبه به عنوان منبع یون های مس استفاده شده است. لایه ها توسط طیف سنجی مرئی- فرابنفش (uv-vis)، طیف سنجی فوتولومینسانس (pl)، تبدیل فوریه طیف مادون قرمز (ftir)، الگوی پراش پرتو ایکس (xrd)،...
رشد و مشخصه یابی ساختاری و الکتریکی نانو ذرات si تهیه شده به روش تبخیر با باریکه الکترونی
نانو ذرات siبه روش تبخیر با باریکه بر روی زیر لایه p-si(111)در زاویای °0، °75 و °85 ساخته شد. مقاومت سطحی نمونه ها به روش ون در پاو اندازه گیری و با نمونه زیر لایه سیلیکان مقایسه شد. نتائج نشان داد به علت افزایش زاویه از °75 به °85 نانو ذرات سیلیکان با تخلخل بیشتری شکل می گیرند در نتیجه نمونه °85 توانایی حمل جریان بیشتر در ولتاژ های مشابه از خود نشان می دهد. این در حالیست که مساحت سطحی و در ن...
full textتاثیر غلظت آلاینده اکسید قلع بر خواص ساختاری و اپتیکی لایه‌های نازک اکسید ایندیم تهیه شده به روش تبخیر با باریکه الکترونی
در این کار تجربی لایه‌های نازک اکسید ایندیم آلاییده با اکسید قلع (ITO) با ترکیب‌های مختلفی از 60 تا wt%95 اکسید ایندیم و 40 تا wt%5 اکسید قلع با استفاده از روش تبخیر با باریکه الکترونی بر روی زیرلایه‌های شیشه‌ای نهشته شدند. لایه‌ها پس از نهشت، به مدت 3 ساعت در هوا در دمای Cْ450 تحت عملیات حرارتی قرار گرفتند. تاثیر غلظت آلاینده اکسید قلع با تغییر غلظت آن از 5 تا wt%40 بر روی خواص ساختاری و اپتیک...
full textMy Resources
document type: thesis
وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه گیلان - دانشکده علوم پایه
Hosted on Doprax cloud platform doprax.com
copyright © 2015-2023